高真空靜電吸盤控制器是雙極可逆電源，特為在真空環(huán)境下靜電吸盤吸附 Wafer 的控制應用而設計。通過控制器的兩個高壓接頭分別向靜電吸盤中通極性相反的 0~5000V 吸附高壓，同樣的，也可以提供極性相反的釋放電壓。此外，本控制器可以實現(xiàn)對 Wafer 的穿刺功能，通過穿刺高壓接口向靜電吸盤提供 1000~4000V 的穿刺電壓。同時，該控制器可監(jiān)測 Wafer 的吸附 / 釋放狀態(tài)。以及高壓穿刺結果。
控制器預留有 DB9 接口可以實現(xiàn)與上位機通訊，通過上位機下發(fā)指令對控制器的功能進行控制，同時可以監(jiān)測控制器的運行狀態(tài)。